(EU) 2022/1Oprava nařízení Komise v přenesené pravomoci (EU) 2022/1 ze dne 20. října 2021, kterým se mění nařízení Evropského parlamentu a Rady (EU) 2021/821, pokud jde o seznam zboží dvojího užití (Úřední věstník Evropské unie L 3 ze dne 6. ledna 2022)

Publikováno: Úř. věst. L 20, 31.1.2022, s. 282-282 Druh předpisu: Nařízení v přenesené pravomoci;Oprava
Přijato: 31. ledna 2022 Autor předpisu: Evropská komise
Platnost od: 31. ledna 2022 Nabývá účinnosti: 31. ledna 2022
Platnost předpisu: Ano Pozbývá platnosti:
Původní znění předpisu

Text předpisu s celou hlavičkou je dostupný pouze pro registrované uživatele.



31.1.2022   

CS

Úřední věstník Evropské unie

L 20/282


Oprava nařízení Komise v přenesené pravomoci (EU) 2022/1 ze dne 20. října 2021, kterým se mění nařízení Evropského parlamentu a Rady (EU) 2021/821, pokud jde o seznam zboží dvojího užití

( Úřední věstník Evropské unie L 3 ze dne 6. ledna 2022 )

Strana 142, příloha, bod 3B001.f se nahrazuje tímto:

„f.

litografická zařízení:

1.

nastavovací a krokovací nebo krokovací a snímací zařízení na zpracování destiček polovodičů za použití fotooptických nebo rentgenových metod, která mají některou z těchto vlastností:

a.

vlnová délka světelného zdroje kratší než 193 nm; nebo

b.

schopnost exponovat obrazce s ‚velikostí nejmenšího rozlišitelného prvku‘ (MRF) 45 nm nebo menší;

Technická poznámka:

‚Velikost nejmenšího rozlišitelného prvku‘ se vypočítá podle vzorce:

Image 1

kde K faktor = 0,35

2.

vybavení pro tiskovou litografii schopné vyrábět struktury o velikosti 45 nm nebo menší;

Poznámka:

Položka 3B001.f.2. zahrnuje:

mikrokontaktní tiskové nástroje

nástroje pro ražení za tepla

nástroje pro nanotiskovou litografii

nástroje pro tiskovou litografii technikou „Step and flash“ (S-FIL)

3.

Zařízení speciálně konstruovaná pro výrobu masek, která mají všechny tyto vlastnosti:

a.

využívají vychylovaného zaostřeného elektronového paprsku, iontového paprsku nebo „laserového“ paprsku; a

b.

mají některou z těchto vlastností:

1.

stopa paprsku o šířce v polovině maxima (full-width at half maximum (FWHM)) menší než 65 nm a umístění obrazu menší než 17 nm (střed + 3 sigma); nebo

2.

nevyužito;

3.

chyba překrytí masky druhou vrstvou menší než 23 nm (střed + 3 sigma);

4.

zařízení konstruovaná pro zpracování součástek za použití metod přímého zápisu, která mají všechny tyto vlastnosti:

a.

mají vychylovaný zaostřený elektronový paprsek; a

b.

mají některou z těchto vlastností:

1.

minimální velikost paprsku nejvýše 15 nm; nebo

2.

chyba překrytí menší než 27 nm (střední hodnota + 3 sigma);“.


© Evropská unie, https://eur-lex.europa.eu/ , 1998-2022
Zavřít
MENU